EN
Fluorination of the disc Ni anode in the HF solution has been carried
out by means of the voltammetric method.
It has been stated that a layer of Ni oxide is produced on the surface
of the electrode as the result of water trace presence in the HF. The produced
oxide layer influences electrochemical reaction of fluorination to a
great extent.
PL
Metodą woltamperometryczną przeprowadzono fluorowanie dyskowej anody niklowej
w środowisku ciekłego HF.
Stwierdzono, że na powierzchni elektrody tworzy się warstwa tlenku niklu na
skutek obecności śladów wody w kwasie fluorowodorowym. Wytworzona warstwa tlenkowa
silnie wpływa na elektrochemiczną reakcję fluorowania.