Title variants
Pewne badania woltometryczne podczas elektrochemicznego fluorowania
Languages of publication
Abstracts
Fluorination of the disc Ni anode in the HF solution has been carried
out by means of the voltammetric method.
It has been stated that a layer of Ni oxide is produced on the surface
of the electrode as the result of water trace presence in the HF. The produced
oxide layer influences electrochemical reaction of fluorination to a
great extent.
out by means of the voltammetric method.
It has been stated that a layer of Ni oxide is produced on the surface
of the electrode as the result of water trace presence in the HF. The produced
oxide layer influences electrochemical reaction of fluorination to a
great extent.
Metodą woltamperometryczną przeprowadzono fluorowanie dyskowej anody niklowej
w środowisku ciekłego HF.
Stwierdzono, że na powierzchni elektrody tworzy się warstwa tlenku niklu na
skutek obecności śladów wody w kwasie fluorowodorowym. Wytworzona warstwa tlenkowa
silnie wpływa na elektrochemiczną reakcję fluorowania.
w środowisku ciekłego HF.
Stwierdzono, że na powierzchni elektrody tworzy się warstwa tlenku niklu na
skutek obecności śladów wody w kwasie fluorowodorowym. Wytworzona warstwa tlenkowa
silnie wpływa na elektrochemiczną reakcję fluorowania.
Keywords
Publisher
Year
Volume
Physical description
Dates
published
1987
Contributors
References
Document Type
Publication order reference
Identifiers
URI
http://hdl.handle.net/11089/15420
YADDA identifier
bwmeta1.element.hdl_11089_15420
JavaScript is turned off in your web browser. Turn it on to take full advantage of this site, then refresh the page.